格物致知、诚意正心
MOSFET-符号,构造和工作
电力电子开关组件,例如BJT,MOSFET,IGBT,SCR,TRIAC等,是许多电路设计中必不可少的器件,从简单的驱动器电路到复杂的功率整流器和逆变器。其中最基本的就是BJT,我们已经学习了BJT晶体管的工作原理。除了BJT,广泛使用的功率开关是MOSFET。与BJT相比,MOSFET可以处理高电压和大电流,因此在高功率应用中很受欢迎。在本文中,我们将学习MOSFET的基础知识,其内部结构,工作原理以及如何在电路设计中使用它们。 如果您想跳过这一理论,可以查阅有关流行MOSFET的文章,以及在哪里使用它们来加快零件选择和设计过程的速度。
MOSFET代表金属氧化物场效应晶体管,发明MOSFET是为了克服FET中存在的缺点,例如高漏极电阻,中等输入阻抗和较慢的操作。因此,MOSFET可以称为FET的高级形式。在某些情况下,MOSFET也被称为IGFET(绝缘栅场效应晶体管)。 实际上,MOSFET是一种压控器件,这意味着通过向栅极引脚施加额定电压,MOSFET将开始通过漏极和源极引脚导通。我们将在本文后面详细介绍。
FET与MOSFET之间的主要区别在于MOSFET的金属氧化物栅电极通过二氧化硅或玻璃的薄层与主要的半导体n沟道或p沟道电绝缘。所述控制门的隔离提高了输入电阻在兆欧姆(M的值非常高MOSFET的Ω )。
通常,MOSFET是具有漏极(D),源极(S),栅极(G)和体(B)/基板端子的四端器件。主体端子将始终连接到源极端子,因此,MOSFET将作为三端子器件工作。在下图中,左侧显示N沟道MOSFET的符号,右侧显示P沟道MOSFET的符号。
MOSFET最常用的封装是To-220,为了更好地理解,让我们看一下著名的IRF540N MOSFET的引脚排列(如下所示)。如您所见,下面列出了栅极,漏极和源极引脚,请记住,这些引脚的顺序将根据制造商而变化。其他受欢迎的MOSFET是IRFZ44N,BS170,IRF520,2N7000等
MOSFET的最常见应用是将其用作开关。下面的电路显示了MOSFET用作开关设备以打开和关闭灯的功能。的栅极输入电压V GS施加输入电压源的帮助。当施加的电压为正时,电动机将处于“开”状态;如果施加的电压为零或负,则灯将处于“关”状态。
通过向门极引脚提供所需的电压来打开Mosfet时,除非向门极提供0V,否则它将保持导通状态。为避免此问题,我们应始终使用下拉电阻(R1),这里我使用的电阻值为10k。在控制电动机速度或调光的应用中,我们将使用PWM信号进行快速切换,在这种情况下,MOSFET的栅极电容会由于寄生效应而产生反向电流。为了解决这个问题,我们应该使用限流电容器,这里我使用的是470的值。
上述负载被认为是电阻性负载,因此电路非常简单,并且在需要使用感性或电容性负载的情况下,我们需要使用某种保护措施以防止MOSFET损坏。例如,如果我们使用不带电荷的电容性负载,则将其视为短路,这将导致高的电流“涌入”,并且当从电感性负载中去除施加的电压时,将会有大量的电流涌入。当磁场崩溃时,电路中反向电压的增加会导致电感器绕组中产生反电动势。
根据工作类型,MOSFET可分为两种类型,即增强型MOSFET(E-MOSFET)和耗尽型MOSFET(D-MOSFET),这些MOSFET根据用于构造的材料进一步分为n沟道和MOSFET。 p通道。因此,通常有4种不同类型的MOSFET
所述 N沟道MOSFET被称为NMOS并且它们由以下符号表示。
根据MOSFET的内部结构,栅极(G),漏极(D)和源极(S)引脚在耗尽型MOSFET中物理连接,而在增强模式中则物理隔离,这就是为什么对于增强模式MOSFET,该符号似乎已损坏。P沟道MOSFET称为PMOS,由以下符号表示。
在可用的类型中,N沟道增强MOSFET是最常用的MOSFET。但是为了知识起见,让我们尝试着找准差异。N沟道MOSFET和P沟道MOSFET之间的主要区别在于,在N沟道中,MOSFET开关将保持断开状态,直到提供栅极电压为止。当栅极引脚接收电压时,开关(漏极和源极之间)将闭合,在P沟道MOSFET中,该开关将保持闭合,直到提供栅极电压为止。
类似地,增强模式MOSFET和耗尽模式MOSFET之间的主要区别在于,施加到E-MOSFET的栅极电压应始终为正,并且具有一个阈值电压,在该阈值电压以上它会完全导通。对于D-MOSFET,栅极电压可以为正或负,并且永远不会完全导通。还要注意,D-MOSFET可以工作在增强和耗尽模式下,而E-MOSFET只能工作在增强模式下。
下图显示了MOSFET的典型内部结构。尽管MOSFET是FET的一种高级形式,并且在与FET相同的三个端子下工作,但MOSFET的内部结构实际上与普通FET不同。
如果看一下结构,您会发现栅极端子固定在薄金属层上,该薄金属层与半导体之间由一层二氧化硅(SiO2)绝缘,并且您将能够看到固定了两个N型半导体在放置漏极和源极端子的沟道区域中。MOSFET的漏极和源极之间的沟道为 N型,与此相反,衬底被实现为P型。这有助于使MOSFET的正极性或负极性都偏置。如果MOSFET的栅极端子没有偏置,它将保持不导通状态,因此MOSFET主要用于设计开关和逻辑门。
通常,MOSFET用作开关,MOSFET控制源极和漏极之间的电压和电流。MOSFET的工作取决于MOS电容器,该电容器是源极和漏极端子之间的氧化层下方的半导体表面。只需分别施加正或负栅极电压,即可将其从p型转换为n型。 下图显示了MOSFET的框图。
当在漏极和源极之间连接漏极-源极电压(V DS)时,将正电压施加到漏极,将负电压施加到源极。此处,漏极处的PN结被反向偏置,源极处的PN结被正向偏置。在此阶段,漏极和源极之间将没有任何电流流动。
如果我们向栅极端子施加正电压(V GG),由于静电吸引,P衬底中的少数电荷载流子(电子)将开始积聚在栅极触点上,这在两个n +区域之间形成导电桥。积累在栅极触点上的自由电子的数量取决于所施加的正电压的强度。施加的电压越高,由于电子累积而形成的n沟道的宽度越大,这最终会增加导电率,并且漏极电流(I D)将开始在源极和漏极之间流动。
当没有电压施加到栅极端子时,由于少数载流子,除了少量电流外,没有任何电流流动。MOSFET开始导通的最小电压称为阈值电压。
MOSFET在耗尽模式下的操作:
耗尽型MOSFET通常被称为“导通”器件,因为当栅极端没有偏置电压时,它们通常处于关闭状态。当我们以正数增加施加到栅极的电压时,在耗尽模式下,沟道宽度将增加。 这将增加通过沟道的漏极电流I D。如果施加的栅极电压非常负,则沟道宽度会减小,MOSFET可能会进入截止区域。
六,特点:
耗尽型MOSFET晶体管的VI特性绘制在漏极-源极电压(V DS)和漏极电流(I D)之间。栅极端子上的少量电压将控制流过通道的电流。在漏极和源极之间形成的沟道将作为良导体,栅极端的偏压为零。如果将正电压施加到栅极,则沟道宽度和漏极电流将增加,而当我们将负电压施加到栅极时,沟道宽度和漏极电流将减小。
MOSFET在增强模式下的操作:
增强模式下MOSFET的操作类似于断开开关的操作,只有在将正电压(+ V GS)施加到栅极端子并且漏极电流开始流过该器件时,MOSFET才开始导通。当偏置电压增加时,沟道宽度和漏极电流将增加。但是,如果施加的偏置电压为零或负,则晶体管本身将保持在OFF状态。
增强模式MOSFET的VI特性绘制在漏极电流(I D)和漏极-源极电压(V DS)之间。VI特性分为三个不同的区域,即欧姆,饱和和截止区域。截止区域是MOSFET将处于截止状态的区域,其中施加的偏置电压为零。当施加偏置电压时,MOSFET缓慢向导通模式移动,电导率的缓慢增加发生在欧姆区域。最后,饱和区是不断施加正电压的地方,MOSFET将保持导通状态。
MOSFET具有不同的封装,尺寸和名称,以用于不同类型的应用中。通常,MOSFET采用4种不同的封装交付,即表面贴装,直通孔,PQFN和DirectFET
三极管和MOS管在驱动上是有区别的,三极管是电流驱动,而MOS管是电压驱动,三极管的基极驱动电压只要高于Ube的死区电压即可控制三极管导通,硅材料三极管的死区电压一般为0.6V,锗材料三极管的死区电压一般为0.3V,所以控制三极管的电压对于硅材料的三极管来说只要高于0.6V左右即可,而对于锗材料的三极管来说只要高于0.3V左右即可。
而MOS管就不一样了,MOS管是电压型驱动,其驱动电压必须高于其死区电压Ugs的最小值才能导通,不同型号的MOS管其导通的Ugs最小值是不同的,一般为3V~5V左右,最小的也要2.5V,但这也只是刚刚导通,其电流很小,还处于放大区的起始阶段,一般MOS管达到饱和时的驱动电压需6V~10V左右。
了解三极管和MOS管在控制上的区别之后,那么单片机I/O口怎么控制三极管和MOS管呢?单片机一般采用5V或3.3V供电,其I/O口高电平为5V或3.3V,处理器一般讲究低功耗,如今使用3.3V供电的单片机较多,所以其I/O口高电平也只有3.3V。
(1)3.3V的电压足够可以驱动三极管,三极管属于电流驱动,根据I/O口的电压VIO以及限流电阻R1的值可以推算出基极电流,Ib=(VIO-0.6V)/R1,选择不同的电阻R1阻值,可以改变基极电流,只要VIO大于0.6V,想要使三极管工作在饱和区都可以,下图为简单的NPN三极管控制LED指示灯的原理。
(2)MOS管是电压驱动,MOS管开启最低驱动电压为3V~5V左右,不同型号MOS管驱动电压不同,一些小功率MOS管最低驱动电压为2.5V左右,单片机I/O口可以直接驱动,但是此时MOS管处于半导通状态,内阻很大,驱动小电流负载可以这么使用。大电流负载就不可以这么使用了,内阻大,管子的功耗过大,很容易烧毁MOS管。MOS管达到饱和状态所需驱动电压一般为6V~10V左右,3.3V的电压不足以直接驱动MOS管使其饱和。因此,可以在I/O口的输出端加一级三极管,使MOS管的驱动电压变高。举例说明,仅供参考,原理如下图所示。
原理分析:当单片机I/O口为高电平时,NPN三极管Q5导通,直接将N-MOS管控制极G极拉低,MOS管截止,负载不工作;当单片机I/O口为低电平时,NPN三极管Q5截止,电阻R12和R13将24V电源分压得G极电压为:24V*20K/(10K+20K)=8V,MOS管导通并达到饱和状态,负载工作。
总结:三极管为电流驱动,较低的电压就可以驱动三极管,而MOS管为电压驱动,驱动电压较高,单片机I/O口的电压不足以驱动MOS管,所以经常使用三极管作为缓冲改变电压,当然除了使用三极管之外还可以使用光耦等。
一、Mos管的作用是?
参考答案:芯片用很微小的电信号,通过MOS的驱动,可以控制很大型的设备
二、MOS管的三个引脚分别是:
答案:G(Gate)、D(Drain)、S(Source)
三、MOS管和三极管的区别?
答案:MOS管为电压驱动,而三极管为电流驱动
您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注
评论 *
显示名称 *
邮箱 *
网站
在此浏览器中保存我的显示名称、邮箱地址和网站地址,以便下次评论时使用。